毗邻国家存储器基地，规划占地面积1104亩，项目一期占地面积约454亩，总建筑面积约85万平方米，投资约50亿元，由国有金融平台武汉光谷金融控股集团有限公司出资建设，将建设展示中心、实验楼、中试车间、洁净室厂房及宿舍楼等。

高标准建设国内一流集成电路产业园，重点建设国家先进存储产业创新中心、集成电路设计中心等一批国家级创新平台；引进集成电路产业链企业，推动产业链共同发展、产业基地规模集聚，形成有全球影响力的国家级半导体产业高地；打造集研发、生产、展示、投资、金融服务等多元一体的综合服务平台，承载落实“一芯驱动”战略。